通过掩膜与基板的垂直放置,来减少翘曲的直立型近接曝光机。对应水平搬送型前后处理装置的联机。
主要特长
- 直立配置掩膜台/基板台。不需补正由掩膜/掩膜台/基板台的自身重量而造成的弯曲变形,构造简单，安定性高。
- 采用新型光学系统,使影响图形转印精度的倾斜角降低至过去的一半以下(与本公司装置相比),可实现更高精度的图形转印。
- 完全分离本体与光源部。光源的热量传递不到本体,改善了本体部的热量分布水准。
- 为了防止因掩膜及玻璃基板的温度差造成的伸缩变形,可选择基板台温度控制系统及掩膜冷却系统。(选购项)
- 最大基板尺寸为1,200mm×1,400mm。通过独自的光学系统实现了均匀的一次性曝光。
- 能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库
主要规格
| MA-6701ML | MA-6801ML | MA-6131ML | ||
|---|---|---|---|---|
| 基板尺寸 | 550 x 650mm | 650 x 750mm | 1100 x 1300mm | |
| 掩膜尺寸 | 620 x 720 x t8.0mm | 700 x 800 x t8.0mm | 1200 x 1400 x t4.8mm | |
| 对位 | 非接触预对位～自动对位 | |||
| 间隙 | 拥有传感性能 | |||
| 光源 | 超高压水银灯：8kW | 超高压水银灯：8kW | 超高压水银灯：18kW | |
| 外观尺寸及重量 | 本体尺寸 | W3500 x D2720 x H2700 mm | W4150 x D3200 x H2900 mm | W11300 x D7060 x H3350 mm |
| 本体重量 | 3500kg | 3800kg | 12700kg | |
| 光源重量 | 800kg | 1150kg | 4200kg | |
| 选购项 | 掩膜冷却、基板台温度调节、温控机房、特殊对位照明 | |||
| 用途 | 触摸屏、彩色滤光片、有机EL、C－STN、电子纸等 | |||
※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽
