2021年Desktop Mask Aligner 的开发以及开始销售
2020年8英寸晶圆用 新型掩膜对准曝装置（Mask Aligner）的开发以及开始销售
2019年荣获SCREEN GA2019 Best Supplier Award
2018年LED LAMP HOUSE搭载曝光机开始销售
2017年将INDEX Technologies Inc. 吸收兼并
2015年东京办事处 开设
2014年薄膜Roll to Roll双面曝光装置的开发

1μm型无掩膜曝光装置的开发　
2013年晶片TITLER转动装置的开发并开始供货
2012年电感线圈用曝光机的开发以及开始供货
2011年LLED、LD用Stepper（ 投影曝光装置） 的开发

东工厂屋顶上设置太阳能发电系统
2010年开始研发和供应新型图像处理装置(GA-LITE)

3μm·5μm型无掩膜曝光装置的开发
2009年荣获京都右京税务署颁发的优秀申告法人持续再表彰奖

取得激光修复装置的制造・销售权
2008年研发MUM曝光装置,荣获经济产业省颁发的关西领跑者大奖

开始研发和供应TOUCH PANEL(触摸屏)用曝光机
2007年研发三维微细加工(MEMS)用曝光机
2006年以资本金2亿4千万日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南区合资设立
INDEX Technologies Inc.,开始研发无掩膜曝光机

KES・环境管理体系阶段2登录。
2005年在京都市伏见区横大路天王后开设横大路工厂
2004年在东工厂厂区内增设东第二工厂(对应大型设备)
2003年在京都南区久世筑山町445番地2开设久世工厂

开始研发和供应PWB用Roll to Roll曝光机

开始研发和供应LED、LD用曝光机
2002年开始研发和供应有机EL用封止装置

研发第5代用2轴步进曝光机
2001年开始研发和供应有机EL用曝光机
2000年在韩国・台湾设立服务网点
1999年取得ISO9001认证
1998年开始研发和供应印刷电路板量产用曝光机

开始研发和供应直立型步进曝光机
1997年在全国安全周期间荣获劳动大臣颁发的进步奖

荣获京都右京税务署颁发的优秀申告法人持续再表彰奖

开始研发和供应PDP用曝光机
1996年开始供应立式大型基板用近接曝光机

在东工厂1F设置适应大型机的无尘车间

开始启用公司内部LAN(局域网)
1994年开始研发LCD量产用第3期生产线装置
1993年开始供应基板TITLER

开始供应线幅测量机
1992年举行创立25周年纪念仪式

荣获京都右京税务署长颁发的优秀申告法人表彰奖

正式导入CAD
1991年在东工厂2F设置无尘车间
1990年开始供应装配有变形装载台的大型基板用近接曝光机
1989年开始供应装载有间隙传感器的非接触大型基板用近接曝光机

在京都市南区久世殿城町190番地1新设东工厂

开始供应二维CCD传感器方式自动对位曝光机
1988年完成间隙传感器

开始供应混合印刷电路板基板用步进曝光机
1987年举行创立20周年纪念仪式

在全国安全周期间荣获京都劳动标准局长颁发的进步奖
1986年完成TAB系统用直立型・高性能自动信息处理器
1985年完成二维CCD传感器方式定位装置
1984年开始供应LCD彩色滤光片用自动对位曝光机

开始供应装载有新方式大型光源的曝光机
1983年LCD用曝光机的大型化
1982年举行创立15周年纪念仪式

开始供应LCD用自动对位曝光机

在总部工厂内设置无尘车间

开始供应热感应打印头用自动对位曝光机
1981年在京都市西京区大原野石见町28番地1开设大原野工厂

完成线形传感器方式自动对位装置
1980年着手研发大型掩膜自动制图机
1979年在总部厂内增设南馆

在总部工厂内导入办公用电脑,着手推进办公自动化
1977年开始供应热感应打印头用扫描曝光机

开始供应LCD用曝光机

开始供应测试信息处理器
1976年完成新方式光源（椭圆镜-复眼透镜方式)
1975年开始供应TAB曝光机
1974年将总部及工厂搬迁到京都府向日市寺戸町久久相1番地

开始供应真空密着式曝光机
1973年开始供应新型精密缩小相机・自动接触打印机
1971年开始供应热感应打印头试制用对位曝光机

资本金增加到5,000万日元
1970年着手研发半导体用掩膜自动制图机等

资本金增加到4,000万日元
1969年开始供应四筒式全自动缩小多面洗印照相机
1968年开始供应半导体用曝光机械・掩膜制作用机械・二维比较测量仪器

资本金增加到2,500万日元
1967年以250万日元的资本金创办了株式会社大日本科研，总部设立在京都市上京区五辻通智恵光院西入