适合触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL用掩膜等胶片形状基材的曝光机。对应Roll to Roll,可实现软性、薄型、轻量基材的大量生产。
主要特长
- 除近接曝光外，还可对应接触曝光(软接触和硬接触)
- 可对应幅度为500mm以上的大型胶片。
- 采用独自的光学系统,可选择单面曝光或双面曝光。还能进行一灯式双面曝光。
- 装载有自动对位功能。通过特殊照明实现透明材料的对位。
- 除Roll to Roll外可设计枚叶式搬送等机构,根据客户的需要构成装置。
- 可选择基板台温度控制及掩膜冷却规格等。(选购项)
主要用途
- 触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL、锂离子电池、太阳能电池、印刷线路板
