主要特长

  • 搭载本公司独创的镜面光学系统爆光灯房(LAMP HOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。
  • 采用本公司独创的同轴对位方式和高速图像处理技术, 从而实现了高精度对位。还支持IR方式和背面方式。
  • 通过本公司独创的光学式间隙传感器,可在非接触状态下高速、精确的设定掩膜和基板间的近接间隙。
  • 搭载有掩膜更换机。最多可自动更换20张掩膜。
  • 最多可搭载3台片仓(Load port)。
Ø300mm 兼容曝光机

主要规格

MA-5301ML
Wafer尺寸Ø300mm
对位非接触预对位~自动对位
光源超高压水银灯:3.5kW
本体尺寸W 2450 × D 2400 × H 2300 mm