简练设计的手动式整面单次曝光装置。
主要特长
- 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。
- 可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。
- 对应最大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有最佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W､1kW､2kW､3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。
主要规格
MA-1200、MA-1400
| MA-1200 | MA-1400 | ||
|---|---|---|---|
| 基板尺寸 | 最大 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″ | 最大 400 x 400mm | |
| 光源 | 超高压水银灯 ：500W or 1kW | 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW | |
| 外观尺寸及重量 | 本体尺寸 | W1240 x D1100 x H1725 mm | W1440 x D1590 x H1882 mm |
| 本体重量 | 400kg | 400kg(包含无尘机房) | |
| 光源重量 | － | 250kg | |
| 选购项 | 无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 | ||
※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽
