产品信息 FPD用曝光装置 G1～G4.5基板用近接曝光装置 G3～G5基板用直立型近接曝光装置 超大型基板用直立型曝光装置 化合物半导体用曝光装置(Mask Aligner) Ø200mm 和Ø300mm兼容曝光机 Ø200mm 兼容曝光机 Ø300mm 兼容曝光机 其他量产用曝光装置 实验・研究用曝光装置 胶片用曝光装置 MEMS用曝光装置 基板用贴合装置 无掩膜曝光装置 Desktop Mask Aligner 公司信息 董事长致词 公司概要 公司沿革 事务所地图 总部地图 东工厂・ 东第二工厂地图 大原野工厂地图 横大路工厂地图 东京办事处地图 主要设备 生产体制 设计部门 制造部门 维修部门 技术信息 光机电一体化工程 实现理想的平行光 水银灯房的构造 LCD用彩色滤光片制造工序 Moving UV mask法 无掩膜曝光技术 联系我们 联系方式
