无掩膜曝光机,是通过美国德州仪器公司制造的Digital Micromirror Device（DMD)来形成曝光图形,因此不需要掩膜。
由于不需要制作掩膜,所以可降低成本和缩短曝光前时间。特别适合少量多品种的生产及研究开发等。
Point Array方式
采用Microlens Array将DMD各像素的光聚集为一点。
在此基础上采用倾斜配置光点群进行扫描的技术,使曝光范围被有效利用,从而达到比DMD像素更加微小的数据分辨率。
例如:光学倍率５：１时,可达到0.05um数据分辨率
70万条光束的高速描画
- 拥有独自硏发的数据发生回路（DGB),能够使约70万条的光束,各自在1秒间进行3万次开与关。因此可实现高速度的描画。
- 例如:在7秒间对600mm长的基板作扫描（数据分辨率为1um时）
也擅长斜线与曲线的曝光
聚集成小点后曝光「Point Array方式」,使斜线及曲线的边缘很平滑。
可提供不逊色于有掩膜时的曝光形状。
看不见扫描间的接缝
「Point Array方式」时,扫描与扫描的接缝由左右扫描各分担一半。与电气性的数据显示位置调节功能相互结合,使接缝不显眼突出。
可软件对位。倍率误差补正; 即时数据变换「i2B」
- 能够在不依靠机械式对位台的条件下,使用独自研发的高速即时数据变换软件,进行数据显示位置的对位（软件对位)。
- 倍率补正也可以是四边形（非矩形的任意四边形）。
不仅再现数据,还再现曝光的智能掩膜｢ｉ-mask」
- 拥有独自的数据格式「i-mask」。「i-mask」不光持有曝光数据,还持有控制曝光机的所有信息,只要拥有这些数据和信息,即可再现完全相同的曝光。
- 备配有把手头设计数据变换成「i-mask」的工具栏。
※Gerber 数据是设计数据的标准。
