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公司沿革
2019年 荣获SCREEN GA2019 Best Supplier Award
2018年 LED LAMP HOUSE搭载曝光机开始销售
2017年 将INDEX Technologies Inc. 吸收兼并
2015年 东京办事处 开设
2014年

薄膜Roll to Roll双面曝光装置的开发

1μm型无掩膜曝光装置的开发

2013年 晶片TITLER转动装置的开发并开始供货
2012年 电感线圈用曝光机的开发以及开始供货
2011年

LED、LD用Stepper( 投影曝光装置) 的开发

东工厂屋顶上设置太阳能发电系统

2010年

开始研发和供应新型图像处理装置(GA-LITE)

3μm·5μm型无掩膜曝光装置的开发

2009年

荣获京都右京税务署颁发的优秀申告法人持续再表彰奖

取得激光修复装置的制造・销售权

2008年

研发MUM曝光装置,荣获经济产业省颁发的关西领跑者大奖

开始研发和供应TOUCH PANEL(触摸屏)用曝光机

2007年 研发三维微细加工(MEMS)用曝光机
2006年

以资本金2亿4千万日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南区合资设立INDEX Technologies Inc.,开始研发无掩膜曝光机

KES・环境管理体系阶段2登录。

2005年

在京都市伏见区横大路天王后开设横大路工厂

2004年

在东工厂厂区内增设东第二工厂(对应大型设备)

2003年

在京都南区久世筑山町445番地2开设久世工厂

开始研发和供应PWB用Roll to Roll曝光机

开始研发和供应LED、LD用曝光机

2002年

开始研发和供应有机EL用封止装置

研发第5代用2轴步进曝光机

2001年

开始研发和供应有机EL用曝光机

2000年

在韩国・台湾设立服务网点

1999年

取得ISO9001认证

1998年

开始研发和供应印刷电路板量产用曝光机

开始研发和供应直立型步进曝光机

1997年

在全国安全周期间荣获劳动大臣颁发的进步奖

荣获京都右京税务署颁发的优秀申告法人持续再表彰奖

开始研发和供应PDP用曝光机

1996年

开始供应立式大型基板用近接曝光机

在东工厂1F设置适应大型机的无尘车间

开始启用公司内部LAN(局域网)

1994年

开始研发LCD量产用第3期生产线装置

1993年

开始供应基板TITLER

开始供应线幅测量机

1992年

举行创立25周年纪念仪式

荣获京都右京税务署长颁发的优秀申告法人表彰奖

正式导入CAD

1991年

在东工厂2F设置无尘车间

1990年

开始供应装配有变形装载台的大型基板用近接曝光机

1989年

开始供应装载有间隙传感器的非接触大型基板用近接曝光机

在京都市南区久世殿城町190番地1新设东工厂

开始供应二维CCD传感器方式自动对位曝光机

1988年

完成间隙传感器

开始供应混合印刷电路板基板用步进曝光机

1987年

举行创立20周年纪念仪式

在全国安全周期间荣获京都劳动标准局长颁发的进步奖

1986年

完成TAB系统用直立型・高性能自动信息处理器

1985年

完成二维CCD传感器方式定位装置

1984年

开始供应LCD彩色滤光片用自动对位曝光机

开始供应装载有新方式大型光源的曝光机

1983年

LCD用曝光机的大型化

1982年

举行创立15周年纪念仪式

开始供应LCD用自动对位曝光机

在总部工厂内设置无尘车间

开始供应热感应打印头用自动对位曝光机

1981年

在京都市西京区大原野石见町28番地1开设大原野工厂

完成线形传感器方式自动对位装置

1980年

着手研发大型掩膜自动制图机

1979年

在总部厂内增设南馆

在总部工厂内导入办公用电脑,着手推进办公自动化

1977年

开始供应热感应打印头用扫描曝光机

开始供应LCD用曝光机

开始供应测试信息处理器

1976年

完成新方式光源(椭圆镜-复眼透镜方式)

1975年

开始供应TAB曝光机

1974年

将总部及工厂搬迁到京都府向日市寺戸町久久相1番地

开始供应真空密着式曝光机

1973年

开始供应新型精密缩小相机・自动接触打印机

1971年

开始供应热感应打印头试制用对位曝光机

资本金增加到5,000万日元

1970年

着手研发半导体用掩膜自动制图机等

资本金增加到4,000万日元

1969年

开始供应四筒式全自动缩小多面洗印照相机

1968年

开始供应半导体用曝光机械・掩膜制作用机械・二维比较测量仪器

资本金增加到2,500万日元

1967年

以250万日元的资本金创办了株式会社大日本科研,总部设立在京都市上京区五辻通智恵光院西入

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