首页 > 产品信息 > 实验・研究用曝光装置
实验・研究用曝光装置

简练设计的手动式整面单次曝光装置。

主要特长
  • 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。
  • 可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。
  • 对应最大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有最佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W、1kW、2kW、3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。
実験・研究用露光装置
主要规格
  MA-1200 MA-1400
基板尺寸 Max 200 x 200mm
ø4" ~ ø6"
Max 400 x 400mm
光源 超高压水银灯 :500W or 1kW 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW
外观尺寸及重量 本体尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm
本体重量 400kg 400kg(包含无尘机房)
光源重量 250kg
选购项 无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽

返回顶部