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其他量产用曝光装置

把涂有光刻胶的基板与掩膜重叠光刻图形的曝光装置。

主要特长
  • 可进行基板整面一次性曝光的自动近接曝光系统。
  • 适合C-STN、STN、陶瓷电容器,热感应打印头等,根据客户需求进行设计。
  • 附有自动对位功能 (MA-4000)
化合物半導体用露光装置

MA-2000~4000系列

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