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无掩膜曝光技术

无掩膜曝光机,是通过美国德州仪器公司制造的Digital Micromirror Device(DMD)来形成曝光图形,因此不需要掩膜。

由于不需要制作掩膜,所以可降低成本和缩短曝光前时间。特别适合少量多品种的生产及研究开发等。

Point・Of・Array方式

  • 采用Microlens Array将DMD各像素的光聚集为一点。
    在此基础上采用倾斜配置光点群进行扫描的技术,使曝光范围被有效利用,从而达到比DMD像素更加微小的数据分辨率。
  • 例如:光学倍率5:1时,可达到0.05um数据分辨率

Point・Off・Array方式Point・Off・Array方式

70万条光束的高速描画

  • 拥有独自硏发的数据发生回路(DGB),能够使约70万条的光束,各自在1秒间进行3万次开与关。因此可实现高速度的描画。
  • 例如:在7秒间对600mm长的基板作扫描(数据分辨率为1um时)

High speed imaging with 700,000 light beams

也擅长斜线与曲线的曝光

聚集成小点后曝光「Point・Of・Array方式」,使斜线及曲线的边缘很平滑。
可提供不逊色于有掩膜时的曝光形状。
Point・Off・Array方式The
Point・Off・Array方式 Point・Off・Array方式

看不见扫描间的接缝

「Point・Of・Array方式」时,扫描与扫描的接缝由左右扫描各分担一半。与电气性的数据显示位置调节功能相互结合,使接缝不显眼突出。

maskless.png

可软件对位。倍率误差补正; 即时数据变换「i2B」

  • 能够在不依靠机械式对位台的条件下,使用独自研发的高速即时数据变换软件,进行数据显示位置的对位(软件对位)。
  • 倍率补正也可以是四边形(非矩形的任意四边形)。

不仅再现数据,还再现曝光的智能掩膜「i-mask」

  • 拥有独自的数据格式「i-mask」。「i-mask」不光持有曝光数据,还持有控制曝光机的所有信息,只要拥有这些数据和信息,即可再现完全相同的曝光。
  • 备配有把手头设计数据变换成「i-mask」的工具栏。
    ※Gerber 数据是设计数据的标准。
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