Skip to content
大日本科研(DNK)
Menu
  • Japanese
  • ENGLISH
  • 首页
  • 产品信息

        • 产品一覧

          产品一覧
        • 实验・研究用曝光装置
        • 化合物半导体用曝光装置(Mask Aligner)
        • 适用于Ø200mm 和Ø300mm的曝光机
          • Ø200mm 兼容曝光机
          • Ø300mm 兼容曝光机
        • 无掩膜曝光装置
        • MEMS用曝光装置
        • 胶片用曝光装置
        • FPD用曝光装置
          • G1～G4.5基板用近接曝光装置
          • G3～G5基板用直立型近接曝光装置
          • 超大型基板用直立型曝光装置
        • 其他量产用曝光装置
        • 基板用贴合装置
        • Desktop Mask Aligner
  • 公司信息
        • 董事长致词
        • 公司概要
        • 公司沿革
        • 事务所地图
          • 总部地图
          • 东工厂・ 东第二工厂地图
          • 大原野工厂地图
          • 横大路工厂地图
          • 东京办事处地图
        • 主要设备
        • 生产体制
          • 设计部门
          • 制造部门
          • 维修部门
  • 技术信息

        • 技术信息

          技术信息
        • 光机电一体化工程
        • 实现理想的平行光
        • 水银灯房的构造
        • LCD用彩色滤光片制造工序
        • Moving UV mask法
        • 无掩膜曝光技术
  • 联系我们

公司信息

董事长致词

公司概要

公司沿革

事务所地图

主要设备

生产体制

JAPANESE
ENGLISH
  • 产品信息
  • Sitemap
  • 联系我们
Copyright © 2025 Japan Science Engineering Co., Ltd.